芯片制造是一场”设备、材料、工艺”的精密合奏,而设备是其中最重的壁垒:一台先进光刻机动辄数亿元,且涉及光学、精密机械、软件控制的极致协同。半导体设备的自主可控,因此成为产业升级的焦点。
近年来,国内设备企业已在刻蚀、薄膜沉积、清洗、涂胶显影等环节实现突破,部分产品进入主流产线并批量出货,国产化率稳步提升。与此同时,设备验证周期长、人才稀缺、零部件依赖进口等短板依然存在,补齐这些环节需要持续的研发投入与上下游协同。
业内观点认为,半导体设备是典型的长坡厚雪赛道,比拼的是耐心与工程能力。随着成熟制程扩产与先进制程攻关并行推进,国产设备企业正迎来从”可用”到”好用”的关键跃迁期。
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